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C系列气相沉积炉

产品简介 热帮助电学气质联用沉淀 (英语图片:chemical vapor deposition ,CVD)是在各个电媒质,半导体器件芯片和复合原产品的保护性表层的沉淀的扎实方法,不论是单晶硅,多晶,无定形或本质情况下上或大或小的型态。先进明显的表层原产品也包括热解碳,增碳硅,氮化硼。借助用分解成前体,表层十分的纯洁并目做到半导体器件芯片行业的先进明显请求,选择工艺技术参数设置,都可以有各种各样层板厚。
产品型号:
更新时间:2024-08-02
厂商性质:生产厂家
访问量:5303

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品牌HAOYUE/华腾升温速度(达到最高温)1~10℃//min
内部尺寸Φ1400x2000mm加热方式石墨电阻
最大功率360kW控温精度±1℃
最高温度1600℃价格区间面议
仪器种类真空炉产地类别国产
应用领域化工,地矿,能源,电子,冶金

气相沉积炉简介

   热诱导性物理气相色🌱谱形成沉积 (英语英文:chemical vapor deposition ,CVD)是广泛用于一些电导电介质,半导和废金属产品的守护表层的沉积状的扎实措施,而是是单晶体,多晶,无定形或概念情况上或大或小的特性。其最典型的示范的表层产品以及热解碳,氢氟酸处理硅,氮化硼。采用用到人工前体,表层无比无杂质并目达到半导工农业的其最典型的示范追求,会根据的工艺指标,能够 有各种层板厚,从独立或几条氧原子层到强度从1𝔍0奈米到千余μm的液体保护英文层或职能层,还有规格达1🔯002um的单面部位,或者独角兽高达数mm毫米。

热分析的化工液相固化(英语怎么说:chemical vaporinfiltration ,CVI)不🅺是个与CVD有关的技能,以在基体涂料浸到多孔或植物纤维预而成件以化学合成由分手后复合涂料制作而成的的控制部件包括增强的设备安全性能,耐生锈性,耐温波动性和低残渣地应力。
技术特点:

  1. 利用立柱式、底/顶开关门结构设计:装、卸料控制精更高,控制便于;

  2. 主要采用领先的调整技術,能高精密调整MT🌼S的总流量和心理压力差,炉膛内基性岩空气比较稳定,心理压力差震荡面积小

  3. 平衡热度匀称性好:平衡平衡热度匀称性为±5℃;

  4. 用多过道沉淀积累气路,流场均匀分布,无沉淀积累盲点,沉淀积累的好;

  5. 全关闭沉积物室,密封圈成果好,抗污染破坏学习能力强;

  6. 人身安全特点好:用到HMI+PLC+PID阻力感测器设定,防护可信度;

  7. 对沉积物生产的🍬高金属腐蚀影响烟气、危险化学品易爆有机废气气体、液态焊接烟尘及低溶点粘力副产物能做有效的正确处理;

  8. 层级高效能率的空气治疗体统,室内环境亲善,能高效能率的采集而来渣油及副乙酰乙酸,易除去;

  9. 使用设汁防蚀蚀蒸空空气能热泵机组,快速运转时间间隔长,检修率较低。

设备规格:

软件

新产品具体型号

合理区尺寸规格(mm)

冷态极限点真空度度(Pa)

上限本职工作环境温度()

支持工艺流程

C4VGR16

VVCgr-56/60-1600

Φ560x600

1

1600

CVD/CVI

C6VGR16

VVCgr-84/90-1600

Φ840x900

1

1600

CVD/CVI

C8VGR16

VVCgr-110/120-1600

Φ1100x1200

1

1600

CVD/CVI

C10VGR16

VVCgr-140/200-1600

Φ1400x2000

1

1600

CVD/CVI

  
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