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CVD(Chemical Vapor Deposition, 化学气相淀积)

时间:2009-10-29点击次数:6244

CVD耐压试验

CVD(Chemical Vapor Deposition, 化学上的气相色谱仪淀积,指把包含有产生溥膜原子的气态生理生理想法剂或液态氨生理生理想法剂的水蒸气及生理生理想法需提交两种混合气体传入生理生理想法室,在衬底外层发现化工生理生理想法生产溥膜的过程中。在超大型企业规模模块化电线中有很多溥膜也是运用CVD步骤分离纯化。途经CVD除理后,外表面除理膜密着性约加快30%,处理高超强钢的收缩,收缩等成型法时造成的刮痕。

 

CVD优缺点:淀积的温度低,薄膜和珍珠棉气体易控,膜厚与淀积准确时间相等,均匀分布性,重新性好,台价涉及性美丽。

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